4月17日上午，物理與電氣工程學院鹿國慶博士在教學樓C105教室為本院2013級光電信息科學與工程專業學生做了題為“極紫外光學元件表面污染在線檢測手段和技術”的學術報告。

極紫外光刻（EUVL）技術作為22-11nm節點的主流光刻技術，其中極紫外多層膜光學元件的表面污染和防護是制約EUVL在大規模生產領域應用的關鍵之一，因此有必要探討具有實際應用價值的表面污染檢測手段和技術。報告中鹿博士首先簡要介紹了極紫外光刻系統的原理、反射鏡膜層結構以及表面污染產生的機理，指出光刻系統中實時、“在線”檢測的技術要求，詳細闡述EUV誘導光電子流、二次電子發射、激光激勵表面聲波和保偏光纖橢偏儀幾種主要表面檢測手段和技術的特點，給出了每種方法在極紫外光學系統中的應用潛力，最后，指出光纖橢偏儀在極紫外光學系統的“在線” 表面污染檢測中具有良好的應用前景。

鹿博士的報告圖文并茂、深入淺出，引起了在場學生對科技前沿課題的極大興趣，現場氣氛十分活躍，通過此次報告使得光電信息科學與工程專業的學生對于光電技術在科技前沿領域的應用有了初步認識，特別是對極紫外光刻以及光學元件表面污染檢測手段和技術有了進一步的了解，大大激發了他們的專業學習興趣。（物理與電氣工程學院 王鵬）